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了舒默之外，这封信还由民主党参议员马克华纳和共和党参议员科宁(John Cornyn)、卢比奥(Marco Rubio)、哈格蒂(Bill Hagerty)、里施(James Risch)和克拉波(Mike Crapo)签署。卢比奥和哈格蒂早些时候写信说，长江存储应该被列入黑名单。另外，路透社周初报道称，美国总统拜登政府正在考虑，限制向包括长江存储在内的中国存储芯片制造商出口美国芯片制造设备。作为回应，美国商务部表示，政府的重点是削弱中国制造先进半导体的努力，并正在更新其方法，并寻求最大限度地提高出口管制的有效性。而在他们的信中，参议员们要求雷蒙多迅速结束政策审议。据Lam Research Corp首席执行官蒂姆(Tim Archer)所称，其公司已接获通知，对中国的出货限制扩大至14奈米以下设备，“这样的改变，早认为或许有一天会来，我们已准备好要完全遵守新规，与美国政府合作”。他还表示，新规定主要是在生产逻辑芯片代工厂设施，排除记忆体芯片，相关影响将列入公司第三季展望。 KLA Corp首席执行官Rick Wallace也证实，公司也收到该出口管制通知，但强调对公司的业务没有实质影响。他称，他的公司已收到美国政府的来函，说明对中国出口许可要求的变化，用于超过14奈米的芯片。中国晶圆代工厂中芯国际日前被曝光，他们成功量产7奈米高阶芯片，传出美国扩大对中国半导体设备出口管制因应。产业专家认为，除了逻辑芯片，同时间也会影响中国DRAM和3D NAND Flash，堪称“一箭三雕”，这将使中国半导体中长期发展面临重重阻碍。美国先前限缩中国取得半导体先进制程设备，但即使缺少荷兰ASML极紫外光(EUV)设备，中芯国际仍传出在先进制程技术发展上获重大突破，已量产出货7奈米芯片长达1年多时间，震撼各界。这里值得关注的是，曝光机是半导体生产的重要设备，EUV曝光机是推进先进制程的关键；深紫外光(DUV)则用于成熟制程。台湾经济研究院研究员刘佩真研判，中芯国际极有可能利用深紫外光(DUV)设备，加上多层光罩，达到7奈米生产。刘佩真提到说，中芯国际目前7奈米量产产能规模可能还小，良率比较不稳定，且成本非常高昂，7奈米性价比相对不高，并可能受到来自美方管制措施，影响客户下单意愿，实际效应有限。随着美国芯片法案越来越逼近正式签署，当前甚至连台积电也感受到压力。台湾工程研究部分产科国际所研究总监杨瑞临表示，美国先前已禁止10奈米以下的先进半导体设备出口中国，这次进一步扩大管制范畴至14奈米以下制程，且包括台积电等外商在中国设立的半导体厂也都被纳入管制。

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